二硅化钽粉
二硅化钽(Tantalum disilicide)
CAS: 12039-79-1
化学式: TaSi2
| 中文名 | 二硅化钽 |
| 英文名 | Tantalum disilicide |
| 别名 | 硅化钽 二矽化钽 二硅化钽 二硅化钽粉 二硅化钽粉 2 ΜM |
| 英文别名 | TANTALUM SILICIDE Tantalum disilicide TANTALUM (II) SILICIDE tantalumsilicide(tasi2) TANTALUM SILICIDE -230 MESH Tantalumsilicidemeshgraypowderavgmicronsorle |
| CAS | 12039-79-1 |
| EINECS | 234-902-2 |
| 化学式 | TaSi2 |
| 分子量 | 237.12 |
| 密度 | 9,14 g/cm3 |
| 熔点 | 2200℃ |
| 水溶性 | Insoluble in water. |
| 存储条件 | Room Temprature |
| 敏感性 | 1: no significant reaction with aqueous systems |
| 外观 | 粉末 |
| 比重 | 9.14 |
| MDL号 | MFCD00049564 |
| 安全术语 | 22 - 切勿吸入粉尘。 |
| WGK Germany | 3 |
| TSCA | Yes |
二硅化钽粉 - 性质
二硅化钽是一种无机化合物。它是一种黑色晶体，具有金属光泽。
二硅化钽具有优良的导电性能，其电导率高于大多数金属。它还具有较高的热导率和较低的热膨胀系数，在高温环境中具有较好的稳定性。二硅化钽还具有较高的抗腐蚀性能，能够抵抗酸、碱等化学介质的侵蚀。
二硅化钽的应用广泛，例如在电子领域中用作金属硅化物薄膜的基体材料，用于制造集成电路和光电器件。二硅化钽还可用作涂料材料、高温结构材料和陶瓷添加剂等。
在使用和处理二硅化钽时需要采取适当的保护措施。
二硅化钽具有优良的导电性能，其电导率高于大多数金属。它还具有较高的热导率和较低的热膨胀系数，在高温环境中具有较好的稳定性。二硅化钽还具有较高的抗腐蚀性能，能够抵抗酸、碱等化学介质的侵蚀。
二硅化钽的应用广泛，例如在电子领域中用作金属硅化物薄膜的基体材料，用于制造集成电路和光电器件。二硅化钽还可用作涂料材料、高温结构材料和陶瓷添加剂等。
在使用和处理二硅化钽时需要采取适当的保护措施。
最后更新：2024-04-10 22:29:15
二硅化钽粉 - 用途与合成方法
二硅化钽（TaSi2）是一种重要的功能材料，具有多种应用。
二硅化钽在高温合金领域应用广泛。
其次，二硅化钽在电子材料领域也具有重要的用途。它是一种半导体材料，具有优异的电导性能和较高的热稳定性。它可以用作电极和电子器件的材料，例如电阻、导线和光电探测器。
二硅化钽还可以用于制备化学反应催化剂、电池材料、太阳能电池和热电材料等。
合成方法，通常有以下几种方法：
1. 化学气相沉积（CVD）：通过将适当的前驱体气体（如钽氯化物和硅烷）通过热解反应在基底上生成二硅化钽薄膜。
2. 液相合成法：将适当的钽盐和硅源在溶液中反应生成二硅化钽颗粒。这种方法通常需要控制反应条件和后续处理步骤，以获得所需的颗粒形貌和尺寸。
3. 电化学沉积法：利用电化学方法将溶液中的钽离子还原成钽金属或钽化合物，并与硅源发生反应，生成二硅化钽。这种方法可以在可控的条件下制备二硅化钽薄膜或纳米颗粒。
二硅化钽在高温合金领域应用广泛。
其次，二硅化钽在电子材料领域也具有重要的用途。它是一种半导体材料，具有优异的电导性能和较高的热稳定性。它可以用作电极和电子器件的材料，例如电阻、导线和光电探测器。
二硅化钽还可以用于制备化学反应催化剂、电池材料、太阳能电池和热电材料等。
合成方法，通常有以下几种方法：
1. 化学气相沉积（CVD）：通过将适当的前驱体气体（如钽氯化物和硅烷）通过热解反应在基底上生成二硅化钽薄膜。
2. 液相合成法：将适当的钽盐和硅源在溶液中反应生成二硅化钽颗粒。这种方法通常需要控制反应条件和后续处理步骤，以获得所需的颗粒形貌和尺寸。
3. 电化学沉积法：利用电化学方法将溶液中的钽离子还原成钽金属或钽化合物，并与硅源发生反应，生成二硅化钽。这种方法可以在可控的条件下制备二硅化钽薄膜或纳米颗粒。
最后更新：2024-04-10 22:29:15
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