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依托考昔杂质10

依托考昔杂质10(Etoricoxib Impurity 10)

CAS: 316149-01-6

化学式: C18H15ClN2OS

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  5. 依托考昔杂质10
中文名 依托考昔杂质10
英文名 Etoricoxib Impurity 10
别名 依托考昔杂质A
依托昔布杂质B
依托考昔杂质10
依托考昔亚砜杂质
依托度昔布杂质B
5-氯-6'-甲基-3-(4-(甲基亚磺酰基)苯基)-2,3'-联吡啶(依托考昔杂质)
英文别名 Etoricoxib A
Etoricoxib Sulfoxide
Etoricoxib Impurity B
IMpurity of Etoricoxib
Etoricoxib Impurity 10
2,3'-Bipyridine, 5-chloro-6'-methyl-3-[4-(methylsulfinyl)phenyl]-
5-chloro-2-(6-methylpyridin-3-yl)-3-(4-methylsulfinylphenyl)pyridine
CAS 316149-01-6
化学式 C18H15ClN2OS
分子量 342.84
密度 1.37±0.1 g/cm3(Predicted)
熔点 122-123 °C(Solv: ethyl ether (60-29-7); hexane (110-54-3); ethyl acetate (141-78-6))
沸点 489.7±45.0 °C(Predicted)
酸度系数 3.75±0.12(Predicted)

依托考昔杂质10 - 简介

依托考昔杂质10是一种化学试剂,也称为 EDTA。它是一种螯合剂,具有以下性质和用途:

性质:
外观:白色结晶粉末。
溶解性:易溶于水,微溶于乙醇和乙醚。
化学性质:能与金属离子形成稳定的络合物。

用途:
金属螯合剂:依托考昔杂质10可以与金属离子如钙、镁、铁等形成络合物,用于金属离子的分析和去除。
缓冲剂:它能调节溶液的pH值,广泛应用于生化实验和生物制剂的生产过程中。
细胞培养:在细胞培养过程中,可用于去除培养基中的金属离子,以维持细胞的正常生长。

制法:
依托考昔杂质10可以通过乙醇氨法制备,即将氯乙酸与氨反应,再通过乙醇提取和结晶得到产物。

安全信息:
依托考昔杂质10具有少量毒性,使用时需戴好手套、口罩和护目镜,避免接触皮肤和眼睛。同时应遵守实验室安全操作规范。
避免与强氧化剂和强酸接触,以免发生危险反应。
应储存在干燥、阴凉的地方,避免与湿气和湿度较高的环境接触,以免影响其质量和效果。
如果误食或误吸入依托考昔杂质10,应及时就医并将包装物或标签提供给医生参考。
最后更新:2024-04-09 02:00:21
依托考昔杂质10
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